 
|
| Menşe yeri: | Hunan, Çin |
| Marka adı: | Infi |
| Model numarası: | JSD |
| Min sipariş miktarı: | 10 adet |
|---|---|
| Fiyat: | To be negotiated |
| Ambalaj bilgileri: | Kutuya ve daha sonra kartona paketlenmiştir |
| Teslim süresi: | 7 iş günü |
| Ödeme koşulları: | T/T, Western Union, Paypal |
| Yetenek temini: | 100 adet/7 gün |
| Sertlik (mikrosertlik): | 80-150 GPa | Gencin modülü: | 1150-130OGPa |
|---|---|---|---|
| sürtünme katsayısı: | 0.05 ~ 0.05 | Termal Genleşme Katsayısı: | 10-.K-l |
| Isı İleticiliği: | 1500-2000 w/ (m·K) | nitrojen içeriği: | <50ppm |
| Renk: | Renksiz | Kristal büyüme süreci: | CVD |
| Vurgulamak: | MPCVD Kaba Mekanik CVD Elmas,CVD Laboratuvarı,VVS Elmasları oluşturdu. |
||
Ürün tanımı:
Tek kristal elmas CVD (kimyasal buhar birikimi), CVD işlemiyle üretilen bir elmas türünü ifade eder.Karbon içeren bir gaz karışımı kontrollü koşullarda parçalanır., bir substrat üzerinde tek bir kristal elmas tabakasının oluşmasına neden olur.
Tek kristal elmas CVD, olağanüstü sertliği ve ısı iletkenliği ile bilinir, bu da onu bir dizi endüstriyel ve bilimsel uygulama için yararlı kılar.kesme ve öğütme aletleri gibi, ısı yayıcıları ve optik bileşenler.
Diğer sentetik elmas biçimleriyle karşılaştırıldığında, tek kristal elmas CVD'nin yüksek derecede düzenli bir kristal yapısı vardır ve bu da ona daha iyi fiziksel ve mekanik özellikler verir.Bu, bir dizi yüksek performanslı uygulama için istenilen bir malzeme haline getiriyor, sertliği ve ısı iletkenliği önemli faktörler.
Özetle, tek kristal elmas CVD, CVD işlemiyle üretilen ve olağanüstü sertliği ve ısı iletkenliği ile karakterize edilen bir tür sentetik elmasdır.Üretim gibi endüstrilerde çok çeşitli uygulamalara sahiptir., elektronik ve optik.
Mikrodalga plazma destekli kimyasal buhar çökme yöntemi (MPACVD) kullanarak,Mikrodalga rezonans sistemi, plazma üretmek için karbon içeren gazı ve koroziv gazı düşük ve orta basınçlarda parçalamak için kullanılır., ve tek kristal elmas kristal modelinin büyüme stratejisi tasarlandı,Böylece elmas kristali kullanılabilir Homoepitaxial büyüme tip IIb elmas tohum kristali 100 ve 110 ve 111 büyüme yönlerinde elde edilir
Mümkün olan boyut:
| Önerilen uygulama | Tek kristal CVD büyümesi için substratlanmış/tohumlar |
| Kristal büyüme süreci: | CVD |
| Rengi: | Renksiz |
| Kullanılabilir boyut: | 3x3x0.3 4x4x0.3 5x5x0.3 6x6x0.3 7x7x0.3 8x8x0.3 9x9x0.6 10x10x0.3 11x11x0.3 12x12x0.3 13x13x0.3 15x15x0.3 |
| Faydaları: | Uzunluk, genişlik ve kalınlık hepsi pozitif tolerans. |
| Polykristal siyah noktalar yok, 20 kat büyütme camının altında çatlaklar yok. | |
| Küçük eksik köşeler olmadan kesim mükemmel. | |
| Polarizatörün altında stres dağılımı eşit. | |
| Yönlendirme: | 4pt/100 |
| Yan Boyutları Ölçülmüştür | Küçük tarafa. |
| Kenarları | Lazer kesimi |
| Kenar Yönlendirme | <100> kenarları |
| Yüz Yönlendirme | {100} yüzler |
| Yan Toleransı: | L + W toleransı (0, +0,3 mm), kalınlık toleransı (0, +0,1 mm). |
| 1. taraf, kabalık, Ra | İki tarafı cilalanmış, Ra < 20 nm Bir tarafı cilalanmış. Polişlenmemiş |
| Bor konsantrasyonu [B]: | <0,05 ppm |
| Azot konsantrasyonu: | < 20 ppm |
Ürün resmi:
İlgili kişi: Mrs. Alice Wang
Tel: + 86 13574841950
